Ilgalaikis pastovus 8 colių SiC tiekimas

Šiuo metu mūsų įmonė gali ir toliau tiekti nedidelę 8 colių N tipo SiC plokštelių partiją. Jei jums reikia pavyzdžių, nedvejodami susisiekite su manimi. Turime keletą plokštelių pavyzdžių, paruoštų išsiuntimui.

Ilgalaikis pastovus 8 colių SiC tiekimas
Ilgalaikis pastovus 8 colių SiC tiekimas, pranešantis apie jo tiekimą1

Puslaidininkinių medžiagų srityje bendrovė padarė didelį proveržį didelių SiC kristalų tyrimų ir plėtros srityje. Naudodama savo užaugintus kristalus po kelių skersmens didinimo raundų, bendrovė sėkmingai užaugino 8 colių N tipo SiC kristalus, kurie išsprendžia sudėtingas problemas, tokias kaip netolygus temperatūros laukas, kristalų įtrūkimai ir dujų fazės žaliavų pasiskirstymas 8 colių SIC kristalų augimo procese, ir pagreitina didelių SIC kristalų augimą bei autonominio ir valdomo apdorojimo technologiją. Tai labai padidina bendrovės pagrindinį konkurencingumą SiC monokristalų substratų pramonėje. Tuo pačiu metu bendrovė aktyviai skatina didelių silicio karbido substratų paruošimo eksperimentinės linijos technologijų ir procesų kaupimą, stiprina techninius mainus ir pramoninį bendradarbiavimą tiekėjų ir vartotojų srityse, bendradarbiauja su klientais, siekdama nuolat tobulinti produktų našumą ir kartu skatina silicio karbido medžiagų pramoninio taikymo tempą.

8 colių N tipo SiC DSP specifikacijos

Skaičius Prekė Vienetas Gamyba Tyrimai Manekenas
1. Parametrai
1.1 politipas -- 4H 4H 4H
1.2 paviršiaus orientacija ° <11–20>4±0,5 <11–20>4±0,5 <11–20>4±0,5
2. Elektrinis parametras
2.1 legiruojantis -- n tipo azotas n tipo azotas n tipo azotas
2.2 varža omas ·cm 0,015–0,025 0,01–0,03 NA
3. Mechaninis parametras
3.1 skersmuo mm 200±0,2 200±0,2 200±0,2
3.2 storis μm 500±25 500±25 500±25
3.3 Įpjovos orientacija ° [1–100]±5 [1–100]±5 [1–100]±5
3.4 Įpjovos gylis mm 1–1,5 1–1,5 1–1,5
3.5 LTV μm ≤5 (10 mm * 10 mm) ≤5 (10 mm * 10 mm) ≤10 (10 mm * 10 mm)
3.6 TTV μm ≤10 ≤10 ≤15
3.7 Lankas μm -25~25 -45~45 -65~65
3.8 Metmenys μm ≤30 ≤50 ≤70
3.9 AFM nm Ra≤0,2 Ra≤0,2 Ra≤0,2
4. Struktūra
4.1 mikrovamzdžių tankis vnt./cm2 ≤2 ≤10 ≤50
4.2 metalo kiekis atomai/cm2 ≤1E11 ≤1E11 NA
4.3 Žaislų saugos tarnyba (ŽSD) vnt./cm2 ≤500 ≤1000 NA
4.4 Rizikos lygis vnt./cm2 ≤2000 ≤5000 NA
4.5 TED vnt./cm2 ≤7000 ≤10000 NA
5. Teigiama kokybė
5.1 priekis -- Si Si Si
5.2 paviršiaus apdaila -- Si-veida CMP Si-veida CMP Si-veida CMP
5.3 dalelė ea/vaflė ≤100 (dydis ≥0,3 μm) NA NA
5.4 nulio ea/vaflė ≤5, bendras ilgis ≤200 mm NA NA
5.5 Kraštas
įskilimai / įlenkimai / įtrūkimai / dėmės / užterštumas
-- Nėra Nėra NA
5.6 Politipų sritys -- Nėra Plotas ≤10% Plotas ≤30%
5.7 priekinis žymėjimas -- Nėra Nėra Nėra
6. Nugaros kokybė
6.1 nugaros apdaila -- C formos MP C formos MP C formos MP
6.2 nulio mm NA NA NA
6.3 Galinių defektų kraštas
įskilimai / įdubimai
-- Nėra Nėra NA
6.4 Nugaros šiurkštumas nm Ra≤5 Ra≤5 Ra≤5
6.5 Nugaros žymėjimas -- Įpjova Įpjova Įpjova
7. Kraštas
7.1 kraštas -- Nuožulna Nuožulna Nuožulna
8. Pakuotė
8.1 pakuotė -- Epi-ready su vakuumu
pakuotė
Epi-ready su vakuumu
pakuotė
Epi-ready su vakuumu
pakuotė
8.2 pakuotė -- Daugiasluoksnis
kasečių pakuotė
Daugiasluoksnis
kasečių pakuotė
Daugiasluoksnis
kasečių pakuotė

Įrašo laikas: 2023 m. balandžio 18 d.