12 colių safyrinė plokštelė didelio masto puslaidininkių gamybai

Trumpas aprašymas:

12 colių safyro plokštelė sukurta siekiant patenkinti augančią didelio ploto, didelio našumo puslaidininkių ir optoelektronikos gamybos paklausą. Kadangi įrenginių architektūros toliau plečiasi, o gamybos linijos pereina prie didesnių plokštelių formatų, itin didelio skersmens safyro pagrindai suteikia aiškių pranašumų našumo, išeigos optimizavimo ir sąnaudų kontrolės srityse.

Siųskite mums el. laišką

Savybės

Detali schema

12 colių safyro plokštelės pristatymas

Mūsų 12 colių safyro plokštelės, pagamintos iš didelio grynumo monokristalo Al₂O₃, pasižymi puikiu mechaniniu stiprumu, terminiu stabilumu ir paviršiaus kokybe. Optimizuotas kristalų augimas ir tikslus plokštelių apdorojimas užtikrina patikimą veikimą pažangiose LED, GaN ir specialiose puslaidininkių srityse.

Medžiagų charakteristikos

Safyras (monokristalio aliuminio oksidas, Al₂O₃) yra gerai žinomas dėl savo išskirtinių fizikinių ir cheminių savybių. 12 colių safyro plokštelės paveldi visus safyro medžiagos privalumus, tuo pačiu užtikrindamos daug didesnį naudingą paviršiaus plotą.

Pagrindinės medžiagos savybės apima:

Ypač didelis kietumas ir atsparumas dilimui
Puikus terminis stabilumas ir aukšta lydymosi temperatūra
Puikus cheminis atsparumas rūgštims ir šarmams
Didelis optinis skaidrumas nuo UV iki IR bangų ilgių
Puikios elektros izoliacijos savybės

Dėl šių savybių 12 colių safyro plokštelės tinka atšiaurioms apdorojimo aplinkoms ir aukštos temperatūros puslaidininkių gamybos procesams.

Gamybos procesas

12 colių safyro plokštelių gamybai reikalingos pažangios kristalų auginimo ir itin tikslaus apdorojimo technologijos. Įprastas gamybos procesas apima:

Monokristalų augimas
Didelio grynumo safyro kristalai auginami naudojant pažangius metodus, tokius kaip KY ar kitas didelio skersmens kristalų auginimo technologijas, užtikrinant vienodą kristalų orientaciją ir mažą vidinį įtempį.
Kristalų formavimas ir pjaustymas
Safyro luitas yra tiksliai suformuotas ir supjaustytas į 12 colių plokšteles, naudojant didelio tikslumo pjovimo įrangą, siekiant sumažinti požeminius pažeidimus.
Šlifavimas ir poliravimas
Siekiant puikaus paviršiaus šiurkštumo, lygumo ir storio vienodumo, taikomi daugiapakopiai šlifavimo ir cheminio mechaninio poliravimo (CMP) procesai.
Valymas ir apžiūra
Kiekviena 12 colių safyro plokštelė yra kruopščiai valoma ir griežtai tikrinama, įskaitant paviršiaus kokybę, TTV, išlinkimo, deformacijos ir defektų analizę.

Paraiškos

12 colių safyro plokštelės plačiai naudojamos pažangiose ir besiformuojančiose technologijose, įskaitant:

Didelės galios ir didelio ryškumo LED pagrindai
GaN pagrindu veikiantys maitinimo įrenginiai ir RF įrenginiai
Puslaidininkinės įrangos laikiklis ir izoliaciniai pagrindai
Optiniai langai ir didelio ploto optiniai komponentai
Pažangūs puslaidininkių korpusai ir specialūs procesų laikikliai

Didelis skersmuo leidžia padidinti našumą ir pagerinti ekonomiškumą masinėje gamyboje.

12 colių safyrinių plokštelių privalumai

Didesnis naudingas plotas, užtikrinantis didesnę įrenginio galią vienoje plokštelėje
Pagerintas proceso nuoseklumas ir vienodumas
Sumažintos vieno įrenginio sąnaudos didelio masto gamyboje
Puikus mechaninis stiprumas didelių gabaritų darbams
Pritaikomos specifikacijos skirtingoms reikmėms

Tinkinimo parinktys

Siūlome lanksčias 12 colių safyro plokštelių pritaikymo galimybes, įskaitant:

Kristalų orientacija (C plokštuma, A plokštuma, R plokštuma ir kt.)
Storio ir skersmens tolerancija
Vienpusis arba dvipusis poliravimas
Briaunos profilis ir nuožulnos dizainas
Paviršiaus šiurkštumo ir lygumo reikalavimai

Parametras	Specifikacija	Pastabos
Vaflinio skersmuo	12 colių (300 mm)	Standartinis didelio skersmens vaflis
Medžiaga	Monokristalinis safyras (Al₂O₃)	Didelio grynumo, elektroninė / optinė kokybė
Kristalų orientacija	C plokštuma (0001), A plokštuma (11–20), R plokštuma (1–102)	Galimos pasirenkamos orientacijos
Storis	430–500 μm	Galimas individualus storis pagal pageidavimą
Storio tolerancija	±10 μm	Griežtas tolerancijos lygis pažangiems įrenginiams
Bendras storio pokytis (TTV)	≤10 μm	Užtikrina vienodą apdorojimą visoje plokštelėje
Lankas	≤50 μm	Matuojama per visą plokštelę
Metmenys	≤50 μm	Matuojama per visą plokštelę
Paviršiaus apdaila	Vienpusis poliravimas (SSP) / Dvipusis poliravimas (DSP)	Aukštos optinės kokybės paviršius
Paviršiaus šiurkštumas (Ra)	≤0,5 nm (poliruotas)	Atominio lygio lygumas epitaksiniam augimui
Krašto profilis	Apvalus kraštas / nuožulnus	Kad būtų išvengta įtrūkimų tvarkymo metu
Orientacijos tikslumas	±0,5°	Užtikrina tinkamą epitaksinio sluoksnio augimą
Defektų tankis	<10 cm⁻²	Matuojama optiniu būdu
Plokštumas	≤2 μm / 100 mm	Užtikrina vienodą litografiją ir epitaksinį augimą
Švara	100 klasė – 1000 klasė	Suderinamas su švariomis patalpomis
Optinis perdavimas	>85 % (UV–IR)	Priklauso nuo bangos ilgio ir storio

12 colių safyrinių plokštelių DUK

1 klausimas: koks yra standartinis 12 colių safyro plokštelės storis?
A: Standartinis storis svyruoja nuo 430 μm iki 500 μm. Pagal kliento reikalavimus taip pat galima pagaminti nestandartinį storį.

2 klausimas: Kokios kristalų orientacijos galimos 12 colių safyro plokštelėms?
A: Siūlome C plokštumos (0001), A plokštumos (11–20) ir R plokštumos (1–102) orientacijas. Kitos orientacijos gali būti pritaikytos pagal konkrečius įrenginio reikalavimus.

3 klausimas: koks yra bendras plokštelės storio pokytis (TTV)?
A: Mūsų 12 colių safyro plokštelių TTV paprastai yra ≤10 μm, todėl visame plokštelės paviršiuje yra vienodumo, kad būtų galima pagaminti aukštos kokybės įrenginius.

Apie mus

„XKH“ specializuojasi aukštųjų technologijų kūrime, gamyboje ir pardavime, susijusiame su specialiu optiniu stiklu ir naujomis kristalinėmis medžiagomis. Mūsų produktai skirti optinei elektronikai, plataus vartojimo elektronikai ir kariuomenei. Siūlome safyro optinius komponentus, mobiliųjų telefonų lęšių dangtelius, keramiką, lengvą stiklo pluoštą, silicio karbido SIC, kvarco ir puslaidininkinių kristalų plokšteles. Turėdami kvalifikuotų specialistų patirtį ir pažangiausią įrangą, mes puikiai atliekame nestandartinių gaminių apdorojimą ir siekiame tapti pirmaujančia optoelektroninių medžiagų aukštųjų technologijų įmone.